EDS（能量分散光譜儀）是通常附在SEM（或XRF）上的元素分析儀?？梢杂冒雽w檢測器測量從SEM電子束照射的表面發射的元素所特有的特征X射線，測量X射線的能量和強度，并從光譜中進行元素分析。和附在EPMA（電子探針顯微分析）上的 WDS（Wavelenght分散光譜法）基本相同，只是X射線能量分析方法使用光譜晶體?？梢暂p松地測量元素濃度，并且可以立即看到在SEM中看到信息。但是，由于可以從距表面相當大的深度發出X射線，因此表面靈敏度非常低。它主要由入射電子束的能量決定，但最多具有亞微米級（0.1μm）的表面靈敏度。

【AES分析】

根據ICP發光分析裝置（ICP-AES），實施從主成分元素到微量成分元素的定性、定量分析。它是一種將霧化的樣品引入高溫氬等離子體中，使用分光鏡將生成的光分成元素固有的光譜，并根據強度從波長定量分析定性的設備。即使校準線范圍是5到6位的動態范圍，并且內容有所不同，也可以同時進行多元素分析?？梢赃M行無機元素的定性分析，痕量元素的定量分析以及多種元素的同時分析。ICP發光分析裝置（ICP-AES）將液體樣品霧化導入高溫氬等離子體中，被熱能激發，產生光。然后，用分光器將其分為元素特有的光譜，根據波長的不同，根據定性和強度進行定量。發光分析法為了進行相對分析，將已知濃度的元素標準液和強度進行比較，測定測定樣品的濃度。

【XPS分析】

在XPS（X-ray Photoelectron Spectroscopy）中，不僅可以研究構成樣品表面（～數nm）的元素、成分，還可以研究化學結合狀態。用于探測的X射線的光束直徑可以從最小10μm設置，也可以進行微距區域的分析。通過使用中和槍進行帶電修正的絕緣物的分析，也可以同時使用Ar離子濺射進行深度方向組成分析。在樣品表面照射X射線會釋放電子（光電子）。通過測量這種光電子的能量和強度，可以知道構成樣品表面的元素的組成和化學結合狀態。通過本裝置的X射線照射放出的光電子的深度是樣品表面（～數nm），可以得到最表面的元素信息。

【XRF分析】

XRF是一種通過分析樣品照射X射線產生的熒光X射線的能量和強度獲得的光譜來進行元素分析的裝置。由于樣品室很大，是EDX（能量分散型X射線分析）類型，可以對大型樣品、固體、薄膜、粉末、液體等各種形態的樣品進行非破壞性分析。另外，與SEM-EDS相比，重元素更強，而且分析領域更廣泛且深度更廣，對各種材料分析和鍍層的膜厚測量等都有效。XRF用X射線照射物質，從產生的熒光X射線中檢測元素所特有的能量，并對元素進行定性和定量分析。當被輻射的X射線將物質原子的內殼電子排斥到外殼上，并且外殼電子移動到空的空間時，就會產生熒光X射線。由于該熒光X射線具有元素固有的能量，因此可以根據該能量進行定性分析，并且可以根據強度進行定量分析。XRF有兩種類型，EDX和WDX（波長分布類型）。EDX用半導體檢測器直接測量從樣品產生的熒光X射線。WDX使用光譜晶體分散從樣品產生的熒光X射線，并使用檢測器對其進行測量。

表面分析之【EDS·AES·XPS·XRF】的對比

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